Tổng quan về các quá trình va chạm của các electron

Trong việc mô hình hoá và tính toán các ứng dụng của của quá trình plasma, các dữ liệu định lượng rất cần trong một số các phản ứng để dẫn ra các dạng trung tính và các ion âm, dương dưới các điều kiện thực tế trong công nghiệp, đặc biệt đối với các vật chất được sử dụng trực tiếp trong việc ngắt hay tạo plasma. Về lý tưởng, đối với một số tính chất hoá học đã được xem xét thì quá trình va chạm của các electron dẫn ra tất cả các phản ứng có thể, các sản phẩm và ngay lập tức phải được tìm hiểu, khám phá ngay. Tiết diện hay xác suất của sự thay đổi các phản ứng (ion hoá, kích thích, phân ly, kết hợp và tái hợp) sẽ phụ thuộc vào các điều kiện của plasma về nhiệt đôn và trạng thái năng lượng của các dạng mục tiêu.

Hiện nay đã có nhiều các dữ liệu được công bố và được nghiên cứu tương đối kỹ về mỗi dạng phản ứng kể trên. Nguồn tạo dẫn các dữ liệu này đều được công bố dựa trên cả thực nghiệm và lý thuyết. Các chất khí đó có thể kể tên như sau:

– Hợp chất kết tủa: SiH4 và SiO2

– Các chất khí sử dụng như khí cách điện: Cl, Br, Cl2, HCl, F2, HBr, BCl3, CF4,…

– Các dạng kết tủa và các sản phẩm ăn mòn: SiClx và SiBrx.

Leave a Reply

Fill in your details below or click an icon to log in:

WordPress.com Logo

You are commenting using your WordPress.com account. Log Out / Change )

Twitter picture

You are commenting using your Twitter account. Log Out / Change )

Facebook photo

You are commenting using your Facebook account. Log Out / Change )

Google+ photo

You are commenting using your Google+ account. Log Out / Change )

Connecting to %s

%d bloggers like this: